什么是光刻机？它用来做什么

　　一般按照具体的使用场景，可以把光刻机分为以下三类：一是用于生产芯片的光刻机，属于芯片制造流程当中的核心设备之一，这是用途最广的场景；二是用于封装的光刻机；三是用于LED制造领域的投影光刻机。

　　在这三种光刻机类型当中，我们国家跟发达国家的差距都比较明显，尤其是在芯片制造方面所使用的光刻机方面，荷兰的ASML公司光刻机可以做到5nm，但是我们国家即便是14nm都属于一项巨大的条件了，所以这其中存在的差距，是非常明显的。

　　在高端光刻机领域，荷兰的ASML属于当之无愧的龙头老大，市场份额占80%，尼康和佳能也曾做过光刻机，但是在ASML面前，基本上没有什么竞争优势，无论是在技术上还是市场份额方面，即便是尼康最新的Ar-F immersion 630价格还不及ASML Ar-F immersion 1980D的一半，仍然没有任何胜算。

　　判断光刻机的性能指标，最直接的，就是看它能生产处制程为多少nm的芯片，比如荷兰ASML公司生产的通过极紫外光(EUV)进行光刻的光刻机，可以制造制程为7nm的芯片，其他比如尼康、佳能、台积电等厂商的光刻机，还远不能跟ASML相比。

　　从光刻机的工作原理上来讲，我们从下面这张图片能看出个大概的原理，但是对于外行人来讲，光刻机就类似个黑匣子，关键在于最终能够制作出多少nm的芯片来就ok了，对于非专业人士来讲，也没有太大的了解的必要。

　　从组成部分来讲，光刻机一般包括测量台、曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩模版、掩膜台、物镜、硅片、内部封闭框架、减振器等等。